化学真空系统 PC 620 select是一个既经济又有效的解决方案。基础泵是备受欢迎的MD 4C NT三级隔膜泵，PC 620 select常用于含高沸点溶剂的真空应用。该泵能够同时搭配两个独立的真空应用使用。

化学真空系统 PC 611 select常用于含高沸点溶剂的真空应用。该泵能够同时搭配两个独立的真空应用使用。一个应用由配备直通电磁阀的VACUU·SELECT真空控制器进行控制，另一个应用由手动流量调节阀进行抽速控制。两个真空端口都内置单向止回阀，能够防止交叉污染互相影响。

化学真空系统 PC 610 select描述 对于需要进行电子控制蒸发或干燥（包含许多高沸点溶剂）过程的应用，我们的PC 600系列化学真空系统是一个很好的选择。备受欢迎的MD 4C NT三级化学隔膜泵，其极限真空度为2mbar，是这些真空系统的核心组件。典型的应用包括实验室常见应用，如旋转蒸发、真空干燥和真空蒸馏。

普兰德化学真空系统 PC 201 NT广泛应用于化学、生物和制药实验室的排气、蒸发或者气体抽取等过程。主要用于和旋转蒸发仪、真空浓缩仪或真空干燥箱等连用，非常适用于高沸点溶剂。手动流量控制阀可以调节真空接口的有效抽速，指针式的真空压力计可显示真空值。

化学真空系统 MD 12C NT +EK有非常广泛地用途，如排气、蒸发及气体或蒸汽的抽空。其既有非常大的抽速，又非常适应高真空需求，如用于高沸点溶剂。MD 12C NT基础泵配有一个气镇阀，在开启时仍有很好的极限真空，紧凑的设计下仍有好的性能。一贯的佳的耐化学腐蚀性，使其在化学及制药领域几乎通用。

化学真空系统 MD 12C NT +AK+EK非常广泛地用途，如排气、蒸发及气体或蒸汽的抽空。其既有非常大的抽速，又非常适应高真空需求，如用于高沸点溶剂。MD 12C NT 基础泵配有一个气镇阀，在开启时仍有很好的极限真空，紧凑的设计下仍有性能。