化学真空系统 MD 4C NT +AK SYNCHRO+EK使用一个真空泵即可同时实现两种过程控制。可与旋转蒸发仪、真空浓缩仪和真空烘箱等配合使用。每个真空连接口配备一个手动控制阀来调节进气口的有效流量。

化学真空系统 MD 4C NT +2AK在化学、生物和制药等实验室应用广泛，主要用于不需要在出气口收集溶剂蒸汽冷凝液的气体或蒸汽的抽取、蒸发等过程。系统可很好地满足高沸点溶剂的真空需求。

化学真空系统 MD 1C +AK+EK广泛应用于排气、蒸发或者气体抽取等过程。它可满足高沸点溶剂更高的真空需求，常用来取代旋片泵。主要用于连接旋转蒸发仪和真空干燥箱。进气口的分离瓶（AK）为玻璃材质，外部覆保护膜，用来防止颗粒或小液滴进入泵体。出气口的废气冷凝器（EK）效率高，结构紧凑，可实现近100%的溶剂回收效果，有效地循环利用溶剂同时保护环境。

化学隔膜泵 MD 12C NT可以满足非常高的要求。MD 12C NT 的八泵头三级结构，使其同时具有大抽气速度和超高极限真空的优点。所有与所抽介质接触的部件均采用耐化学腐蚀的氟塑料。经广泛验证的PTFE“三明治”夹层结构膜片增强了其稳定性，同时延长操作寿命。

化学隔膜泵 MD 4CRL NT描述 对于泵的气密性要求非常高的那些应用，我们推荐使用MD 4CRL NT。这款三级泵同时具有大抽气速度和超高极限真空的优点。MD 4CRL NT的所有与被抽介质接触的部件都是由抗化学腐蚀的氟材料和一种特殊的、高耐腐蚀的不锈钢材料构成。经广泛验证的PTFE“三明治”夹层结构的膜片稳定性更高，延长了操作寿命。经测试，每个泵的整体漏率都仅为0.001mbar l/s。

VARIO®化学真空系统 PC 3012 NT VARIO DUO由两个独立的VARIO®真空系统组成，在进气口端并行连接，并通过一个CVC 3000控制器同时进行操控。真空条件可控制。两个独立真空泵的转速可以根据真空需求控制。控制器即可实现不需要用户预设的全自动蒸馏，又可以进行特定的、可重复地程序编程。